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適用於 倒置顯微鏡

TEC半導體溫控片，降溫時無需液氮制冷耗材，適合長時間實驗

-10℃~90℃ 可編程控溫（無需制冷耗材）

適用 φ35 mm和75mmX25mm以下的樣品

可從溫控器或電腦軟件控制，可提供軟件SDK

*可做定制或改動，詳詢上海恒商

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溫度範圍

-20℃ ~90℃

加熱塊材質(zhì)

鋁本色氧化

傳感器/溫控方式

100Ω鉑RTD / PID控制

加熱/制冷速度

+20℃/min （25℃時）

-10℃/min （25℃時）

加熱/制冷速度

±0.01℃/min

溫度分辨率

0.01℃

溫度穩(wěn)定性

±0.05℃

軟件功能

可設溫控速率，可設溫控程序，可記錄溫控曲線

透光孔

Φ12 mm ?*截面圖中φVA

底部窗片觀察

觀察範圍φ38mm（外層） / 12mm（內(nèi)層）

視角±70° ?*截面圖中θ1

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加熱區(qū)/樣品區(qū)

Φ35 mm ?????????????標準

25 mm x 75 ? ?mm?????? 標準

ODφ1.5mm毛細血管

放樣

拿走內(nèi)蓋後置入樣品

安裝方式

水平安裝 或 垂直安裝

臺體尺寸/重量

159.8 mm ? ?x 109.8 mm x 39.5 mm / XXXXg

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基本配置

TS102Si冷熱臺 、mK2000B溫控器

C100W循環(huán)水機

選配內(nèi)蓋

客戶可以選擇所需要的內(nèi)蓋

TS102Si-LS

TS102Si-LP

TS102Si-LSR

TS102Si-LPR

TS102SI-LFP

TS102Si-LFPR

TS102Si-LFV

TS102Si-LFVR

增加內(nèi)蓋會影響高低溫速率

適用於1”X3”載玻片，帶通光孔;透射

適用於35mm比色皿，帶通光孔;透射

適用於1”X3”載玻片，無通光孔;反射

適用於35mm比色皿，無通光孔;反射

平面流動室，帶透射孔

平面流動室，反射

垂直流動室，帶透射孔

垂直流動室，反射