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產(chǎn)品詳情

HCC602 冷熱夾盤

HCC602溫控晶圓夾盤支持 -190℃ ~ 600℃範圍的樣品溫控，並且溫度均勻性好。主機設(shè)計小巧，可以集成到光學顯微鏡，紅外，拉曼光譜儀等設(shè)備，進行溫控的同時支持光學觀察，也可集成到探針臺上，進行電學測試。結(jié)構(gòu)緊湊，可集成到晶圓探針臺上，設(shè)計用於探針測試可編程控溫，涵蓋不同溫度段（具體由型號而定）適用不同尺寸晶圓的真空吸附槽設(shè)計可降溫到 80K 可從溫控器或電腦軟件控制，可提供軟件SDK

細節(jié)展示：

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功能特點

可編程精密控溫?？瑟毩⒖刂?，也可從上位機軟件控制

低盤面溫度梯度

軟件可拓展性好，可提供LabView等語言的SDK

#升級項# 性能可升級，詳見配置列表

臺面電位可選電接地（R），電懸空（RF），三同軸（RT）

*可做定制或改動，詳詢上海恒商

技術(shù)參數(shù)
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臺面選項		標準：本色氧化可選：鍍金
晶圓樣品真空吸附		多個獨立的真空吸附通道可定制真空吸附方案
晶圓頂桿		默認無，可定制
底座冷卻		可通循環(huán)水，以維持底座溫度在常溫附近
安裝		可集成到探針臺上，可定制安裝支架
傳感器/溫控方式		100Ω鉑RTD / PID控制（含LVDC降噪電源）
臺面平面度		±25um
軟件功能		可設(shè)溫控速率，可設(shè)溫控程序，可記錄溫控曲線
? ? ? 溫控性能	溫度範圍	-190℃ ～ 600℃ 負溫需使用液氮制冷
	溫度分辨率	0.01℃
	溫度穩(wěn)定性	±0.05°C ? ?(>25°C) ， ±0.1°C (<25°C)
	溫度均勻度	全臺面 ±2% 或 ? ?更優(yōu)
	加熱速度	+70℃/分鐘(at 100℃)
	制冷速度	-15℃/分鐘(at 100℃) （需配合P4C）
	溫度傳感器	100Ω鉑質(zhì)RTD
	溫控方式	LVDC式PID
	適用尺寸	8mm~50mm
*註：液氮泵型號不同，制冷表現(xiàn)也會有差異，請悉知

選型表
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型號	臺體尺寸	適用樣品尺寸		重量 kg	溫控 *負溫需液氮系統(tǒng)		變溫速度
型號	臺體尺寸	小	大	重量 kg	低	高	加熱	制冷
HCC212S	100 ? ?mm x62 mm x 32.55 mm	5mm	50mm	0.4	-120°C	200°C	+80°C/min	-30°C/min
HCC312S	100 mm x 62 ? ?mm x 32.55 mm	5mm	50mm	0.4	-120°C	300°C	+80°C/min	-30°C/min
HCC602S	100 ? ?mm x62 mm x32.55 mm	5mm	50mm	0.5	-100°C	600°C	+120°C/min	-30°C/min

配置列表
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基本配置	溫控晶圓卡盤、mK2000B溫控器
可選配件	安裝支架、液氮制冷系統(tǒng) 、外殼循環(huán)水冷系統(tǒng)

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