HCP600G-CAP為毛細管樣品而設計，此產(chǎn)品可用於顯微鏡/光譜儀，可在 -190℃ ~ 600℃ 範圍內(nèi)控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺上蓋與底殼構成一個較為密閉的腔室，可往內(nèi)充入氮氣等保護氣體，來防止毛細管樣品在負溫下出現(xiàn)表面結霜而影響觀察。
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HCS621GXY-GEO為地質(zhì)實驗應用設計。其溫度範圍 -190℃ ~ 600℃，同時支持樣品側邊快速導入、樣品精密移動、光學觀察和樣品氣體環(huán)境控制功能。 熱臺上蓋，側門與底殼構成一個氣密腔，可往內(nèi)充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化。側門用於快速送入樣品，換樣時無需移動冷熱臺，無需顯微鏡重新調(diào)焦。此外另有真空腔型號HCS421VXY-GEO提供。*支持定制 -
HCS121VXY為顯微鏡/光譜儀的低溫應用設計。此款冷熱臺可在 -190℃ ~ 100℃ 範圍內(nèi)控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺上蓋與底殼構成一個可抽真空的密封腔，亦可內(nèi)充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化。*支持定制 -
HCS601G-IRM為紅外顯微鏡/紅外光譜儀設計。此款冷熱臺使用紅外窗片，且觀察角度大，符合紅外測試的數(shù)值孔徑要求。此款冷熱臺可在 -190℃ ~ 600℃ 範圍內(nèi)控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺上蓋與底殼構成一個氣密腔，可往內(nèi)充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化。*支持定制 -
HS1500G高溫熱為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計，可用於陶瓷、冶金、地質(zhì)、高溫材料等領域。可加裝樣品接電引線，可定制樣品區(qū)。 此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1500℃ 範圍內(nèi)控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔，且樣品區(qū)偏離視窗center，這樣即可以充入氮氣等保護氣體，來防止樣品高溫下反應，又可以通過旋轉窗片來移開窗片上的揮發(fā)物。*支持定制 -
TS102GXY / TS102VXY可用於顯微鏡等光學設備。冷熱臺的溫控基於帕爾貼半導體溫控片（TEC），無需液氮制冷耗材即可達到 -40℃，適合長時間實驗。冷熱臺使用25 mm x 75 mm標準載玻片，並可進行顯微鏡下樣品精密移動。 TS102GXY的熱臺上蓋與臺體構成一個氣密腔，TS102VXY的則是真空腔，腔內(nèi)可以充入保護氣體或抽真空（依據(jù)不同型號），來防止樣品在負溫下結霜。*支持定制 -
HS1200G高溫熱臺為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計，可用於陶瓷、冶金、地質(zhì)、高溫材料等領域。可加裝樣品接電引線，可定制樣品區(qū)。 此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1200℃ 範圍內(nèi)控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔，且樣品區(qū)偏離視窗center，這樣即可以充入氮氣等保護氣體，來防止樣品高溫下反應，又可以通過旋轉窗片來移開窗片上的揮發(fā)物。此外另有真空腔型號HS1200V提供。*支持定制 -
通用實驗溫控臺， TEC半導體溫控片，降溫時無需液氮製冷耗材，適合長時間實驗 -30℃~120℃ 可編程式控制溫（無需製冷耗材） 方形檯面，40mm~300mm尺寸型號皆有 開放式溫控平臺，適合搭配不同設備*支持定制 -
MITO2-20MC顯微鏡相機和配套軟件WinDV，他們?yōu)镮nstec溫控裝置設計。軟件支持溫控和圖像拍攝的聯(lián)合控制，可將溫度等數(shù)據(jù)打標在圖像上，並且支持樣品尺寸測量。 MITO2-20MC是進行樣品溫度依賴觀察的理想方案。*支持定制
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